原子层沉积(Atomic Layer Deposition,ALD)作为一种基于表面自限制反应的化学气相沉积技术,具有优异的均匀一致性和亚纳米厚度可控性,可对微纳米颗粒精确控制包覆厚度、...
基于2900个网页-相关网页
...面复合速率（SRV），提高太阳能电池的短路电流和开路电压，进而使光电转换效率提高。原子层沉积技术（Atomic Layer Deposition，ALD）是一项薄膜沉积的新工艺，用它来沉积的氧化铝钝化材料在太阳能电池中得到了应用，并在实验室得到了较高的转化效率。
基于146个网页-相关网页
...的材料沉积，但仍具有相同的沉积厚度，改善阻抗层的一致性和均匀性，就45奈米制程来说，原子层沉积法（Atomic Layer Deposition，ALD）是较为适用的，利用Molecular-Level的控制，可以达到100％的Step Coverage...
基于20个网页-相关网页
Atomic Layer Deposition System 原子层沉积系统 ; 沉积系统
ALD-atomic layer deposition 原子层沉积技术
Atomic Layer Chemical Vapor Deposition 或原子层化学气相沉积 ; 也称为原子层化学气相沉积
·2,447,543篇论文数据，部分数据来源于NoteExpress
以上来源于: WordNet
The optical properties of Al2O3 films grown by atomic layer deposition were investigated.
研究了原子层沉积制备氧化铝薄膜的光学性能。
The scientists used a process called atomic layer deposition to coat some spider silk with zinc, titanium or aluminum.
科学家们通过一种名为“原子层沉积”的化学方法在普通的蜘蛛丝上镀上锌原子、钛原子或者铝原子。
It's an arduous, time-consuming process, using atomic layer deposition to spray material that's an atom thick, on a microscopic surface.
使用原子层沉积物在一个微小的表面对只有一个原子这么厚的材料进行喷涂，可是一个费力、耗时的过程。
应用推荐